土曜日はトライアスロン部の20周年式典でした。20周年にインカレ団体優勝優勝の悲願を達成できたのは運命のいたずらなのでしょうか。 午前中に元プロトライアスリートの講習会、レクリエーションを挟み、午後からは市内のホテルで式典。 夜は市内の温泉旅館で宴会でした。 自分は帰国日だったため20時前に仙台に到着し、宴会からの参加となりました。 恒例となったレベルの高い宴会芸、創始者の作られた20周年記念DVDの上映、3名のOBの方の入籍発表など濃い内容でした。 OBの方は各方面で活躍されている人が多くとても多様な話が聞けます。 改めて多様な人の集うこの部に所属できて幸せだったと感じることが出来ました。 自分もOBとして少しでも部に貢献できればと思います。
学祭と被った忙しいこの時期に準備をされた現役の皆さんは本当にお疲れ様でした。
ここからはAVSの自分の発表セッションの報告です。(忘れない内に)
PS+MS+ThM セッション名: Equipment Modeling
1．南部先生：粒子モデルについて招待講演（Review）
2．武木田：フル粒子モデルによるガス流れとCF4プラズマの連成解析
中性粒子ラジカルにDSMC法、プラズマにPIC/MC法を用いた連成解析
エッチング装置におけるガス流れのプラズマに対する影響を解析
3．真壁先生のグループ: 流体モデルを用いたエッチング用2周波励起プラズマの解析．加工ウエハー端に置かれるFocus Ring形状のプラズマ構造，入射するイオンエネルギー等に対する影響を解析
4．メーカーApplied Material: Hybridモデルを用いた２周波励起容量結合プラズマエッチング装置の最適化例を紹介。流れによるラジカルの輸送ととプラズマからのイオンの入射を最適化することによる装置の最適化。具体的な内容はすべて機密。グラフもすべて数字が消されている。
5．Kushnerらのグループ：イオン注入に用いられる装置のHybridモデルを用いた解析。基板に対して1000VのDCパルスをかけてイオンを注入させる。パルスインターバル，放電用のコイルの場所や反応器の形状で加工条件を最適化する。
6．Economouらのグループ：粒子モデルを用いたイオンビームを生成するプラズマ源の解析．プラズマの解析とイオンの取り出し口を分割して解析。実験と比較して一致した結果を得る。発展させた中性粒子ビームの生成も解析。粒子モデルを有効に利用している。
7．メーカーFreescale semiconductor：プラズマエッチングプロセス中に引き起こされるゲート絶縁膜への電荷の堆積による回路へのダメージ(絶縁破壊)を気相における放電シミュレーションからエッチングによる電荷蓄積までを一貫して解析。絶縁膜の材質やエッチング形状を変化させた解析を行いどのような場合に絶縁破壊が引き起こされるかを解析。プラズマは流体モデル。エッチ形状や電荷の蓄積は粒子モデルで解いている。
8．ベルギーのDeplaさん: スパッタリング用DCマグネトロンの単純化された解析モデルの提案。実験とも比較。単純モデルながら比較的一致した結果を得る。 RF放電は計算できないようだが…
